德國Hellma晶體材料LD-A

　　Hellma公司由KarlMayer于1922年在德國耶拿創立，最初專注于生產光學玻璃比色皿。隨著光學精密技術的迅猛發展，Hellma逐步擴展產品線，涵蓋了超微量比色光學設備等領域。1995年，公司成功開辟新的產品方向，實現了纖維系列產品的開發。2010年，通過收購SchottLithotec，強化了晶體材料業務。

　　產品線與技術特點

　　核心產品：

　　比色皿：Hellma提供1700多種型號的比色皿，覆蓋石英和光學玻璃等多種材質。這些比色皿光程范圍從0.01mm到100mm，適配紫外到紅外光譜（200nm-3500nm），如100-QS系列（島津UV1800配套）。

　　光纖探頭：Hellma于1995年光纖探頭，用于在線分光檢測。這些探頭耐高溫高壓，為樣本數據采集與測量過程同步進行提供了可能，大大節省了實驗時間，并使有毒物質和放射性物質的光學測量變得更加安全可靠。

　　晶體材料：Hellma的晶體材料包括氟化鈣（CaF?）單晶和多晶，透光范圍從130nm到9μm，折射率均勻性小于0.5ppm，適配光刻激光（193nm/248nm）。這些晶體材料在半導體生產微光刻中作為關鍵光學材料，被確立為投影和照明光學中準分子激光光學器件的行業標準材料。

　　技術優勢：

　　精度：Hellma產品的光路公差為±0.01mm，窗口平整度小于4λ（λ=546nm），確保了測量的可重復性。

　　材料：采用高純度石英和氟化鈣等優質材料，單片熱結合結構防泄漏，耐化學腐蝕。

　　制造工藝：Hellma以其高精度的生產工藝著稱，如比色皿的光程精度高，樣品腔內徑誤差極小，透光窗口平行度高，減少了光線折射和反射導致的光強損失。

　　Hellma氟化鈣（CaF?）晶體是一種高性能光學材料，具有從深紫外到紅外波段的高寬帶透射率、低折射率、低光譜色散、出色的激光耐久性和抗輻照能力，廣泛應用于精密光學、半導體制造、天文觀測、激光技術及科研醫療等領域。

　　核心特性

　　高寬帶透射率：Hellma氟化鈣晶體的透射波段范圍為130nm（深紫外）至8μm（紅外），部分資料顯示可達9μm甚至10μm，覆蓋真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、可見光及紅外（IR）等多波段需求。

　　低折射率：折射率（nd）為1.43384，低光學損耗，適配精密光學系統。

　　低光譜色散：阿貝數（vd）為95.23，低色散特性使其在色校正光學系統中（如天文望遠鏡、高清鏡頭）能顯著提升成像質量。

　　出色的激光耐久性：對157nm、193nm、248nm等準分子激光波長具有優異耐受性，適用于光刻激光光學器件和光束傳輸系統，延長組件壽命。

　　抗輻照能力：抵抗高能粒子輻射，適用于航空航天等惡劣環境。

　　高熱導率：熱導率為9.71W/（m·K），快速散熱，適配高功率激光場景。

　　高環境適應性：大氣下使用溫度達600℃，真空干燥時可達800℃，機械強度高且抗潮解。

　　規格與定制

　　尺寸：多晶直徑可達440mm，單晶直徑可達250mm，厚度可定制至150mm。

　　晶體取向：支持<111>、<100>及隨機取向定制。

　　表面質量：可選原始、切割、研磨、拋光等多種處理精度，平面度可達λ/10，光潔度20-10。

　　典型應用

　　半導體微光刻：作為248nm與193nm微光刻技術中照明和投影光學的行業標準材料，直接支撐45nm以下芯片制程精度。

　　天文觀測：用于高分辨率空間相機、天文望遠鏡的光學元件，以及天基光學器件（如衛星載荷），其低應力雙折射特性確保信號傳輸完整性。

　　激光技術：作為激光諧振腔鏡、醫用激光器（如光學相干斷層成像設備）的核心材料，適配193nm、248nm等準分子激光波長。

　　科研醫療：用于紅外光譜傳感器、醫用激光器等設備。

德國Hellma晶體材料LD-A